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蒸发材料

电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种,是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基板输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中,被加热的物质放置于水冷的坩埚中,可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量,因此,电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜,同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚,实现同时或分别蒸发,沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发,任何材料都可以被蒸发,不同材料需要采用不同类型的坩埚以获得所要达到的蒸发率。

Goodwill可以提供1~3mm,3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。

单质蒸发材料

高纯金属蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
高纯银
Ag
3N~5N
高纯镍
Ni
3N~5N
高纯铝
Al
3N~5N
高纯铅
Pb
3N~5N
高纯金
Au
3N~5N
高纯钯
Pd
3N~5N
高纯铋
Bi
3N~5N
高纯铂
Pt
3N~5N
高纯镉
Cd
3N~5N
高纯锑
Sb
3N~5N
高纯钴
Co
3N~5N
高纯硒
Se
3N~5N
高纯铬
Cr
3N~5N
高纯硅
Si
3N~5N
高纯铜
Cu
3N~5N
高纯锡
Sn
3N~5N
高纯铁
Fe
3N~5N
高纯钽
Ta
3N~5N
高纯锗
Ge
3N~5N
高纯碲
Te
3N~5N
高纯铟
In
3N~5N
高纯钛
Ti
3N~5N
高纯镁
Mg
3N~5N
高纯钨
W
3N~5N
高纯锰
Mn
3N~5N
高纯锌
Zn
3N~5N
高纯钼
Mo
3N~5N
高纯锆
Zr
3N~5N
高纯铌
Nb
3N~5N


3N~5N

化合物蒸发材料

氧化物蒸发材料
名称 分子式 纯度 名称 分子式 纯度
氧化铝 AL2O3
3N~5N
氧化钪 Sc2O3 3N~5N
氧化铋
Bi2O3
3N~5N
氧化钐 Sm2O3 3N~5N
氧化铬
Cr2O3
3N~5N
一氧化钛 TiO 3N~5N
氧化铈
CeO2
3N~5N
二氧化钛 TiO2 3N~5N
氧化铒
Er2O3
3N~5N
三氧化二钛 Ti2O3 3N~5N
二氧化铪
HfO2
3N~5N
氧化钒 V2O5 3N~5N
氧化铟锡
ITO
3N~5N
三氧化钨 WO3 3N~5N
氧化镁
MgO
3N~5N
氧化钇 Y2O3 3N~5N
氧化铌
Nb2O5
3N~5N
氧化锆
ZrO2 3N~5N
氧化钕
Nd2O3
3N~5N
氧化锌
ZnO 3N~5N
一氧化硅
SiO
3N~5N
氧化镍
NiO 3N~5N
二氧化硅
SiO2
3N~5N



氟化物蒸发材料
名称 分子式 纯度 名称 分子式 纯度
氟化钡 BaF2
3N~5N
氟化镧 LaF3 3N~5N
氟化钙
CaF2
3N~5N
氟化镁 MgF2 3N~5N
氟化铈
CeF3
3N~5N
氟化钠 NaF 3N~5N
氟化镝
DyF3
3N~5N
氟化钕 NdF3 3N~5N
氟化饵
ErF3
3N~5N
氟化锶 SrF3 3N~5N
氟化钾
KF
3N~5N
氟化钐 SmF3 3N~5N
氟化镱
YbF3
3N~5N
氟化钇 YF3 3N~5N
其他化合物蒸发材料
名称 分子式 纯度 名称 分子式 纯度
氮化铝 AlN
3N~5N
钛酸镨 PrTiO3 3N~5N
氮化硼
BN
3N~5N
碳化硅 SiC 3N~5N
钛酸钡
BaTiO3
3N~5N
钛酸锶 SrTiO3 3N~5N
硫化铜
CuS
3N~5N
氮化硅 Si3N4 3N~5N
碳化铪
HfC2
3N~5N
氮化钛 TiN 3N~5N
钛酸镧
LaTiO3
3N~5N
硒化锌 ZnSe 3N~5N
冰晶石
Na3AiF6
3N~5N
硫化锌 ZnS 3N~5N
掺杂化合物蒸发材料
名称 分子式 纯度 名称 分子式 纯度
氧化铝+氧化钛 Al2O3+TiO2
3N~5N
氧化钛+氧化钽 TiO2+Ta2O5 3N~5N
氧化铝+氧化锌
Al2O3+ZnO
3N~5N
氧化钛+氧化铌 TiO2+Nb2O 3N~5N
氧化铝+氧化镁
Al2O3+MgO
3N~5N
氧化锆+氧化钽 ZrO2+Ta2O5 3N~5N
氟化铈+氟化钙
CeF3+CaF2
3N~5N
氧化锆+氧化钇 ZrO2+Y2O3 3N~5N
氧化铟+氧化锡
In2O3+SnO2
3N~5N
氧化锆+氧化铝 ZrO2+Al2O3 3N~5N
氧化锡功能膜料
SnO2+Pt/Pd
3N~5N
氧化锆氧化钛 ZrO2+Ti3O5 3N~5N